Unter dem Leitmotiv „Impulse für eine bessere Arbeitswelt“ knüpfte die diesjährige Ausgabe der A+A an den Erfolg ihrer Vorveranstaltungen an: 2.200 ausstellende Unternehmen aus 58 Nationen präsentierten nach offiziellen Angaben in 12 Hallen auf mehr als 80.000 qm ihre Produkte und Innovationen. Rund 62.000 Fachbesucherinnen und -besucher aus 140 Ländern kamen vom 24. bis zum 27. Oktober 2023 nach Düsseldorf, um sich auf der Leitmesse für Arbeitsschutz und Arbeitssicherheit über aktuelle Themen und Produkte zu informieren. 96,4% der Gäste sahen dabei einer Umfrage der Veranstalter zufolge ihre Erwartungen an den Messebesuch mehr als erfüllt.
Besonders im Fokus standen die beiden Themen Digitalisierung und Nachhaltigkeit. U.a. Smart Wearables, innovative Apps und Anwendungen auf KI- oder Virtual Reality-Basis wurden zum Teil erstmals der Öffentlichkeit präsentiert. „Die diesjährige A+A hat sich den aktuellen Fragen und Herausforderungen angenommen, Denkanstöße gegeben, Lösungsansätze aufgezeigt und den persönlichen Austausch gefördert“, so Lars Wismer, Director der A+A. „Es war großartig zu erleben, wie die Messe als Plattform die Branche vernetzt und inspiriert.“
Der im Rahmen der A+A stattfindende 38. Internationale Kongress für Arbeitsschutz und Arbeitsmedizin der Basi griff ebenfalls Zukunftsthemen auf. Auf der WearRAcon Europe Konferenz, der europäischen Ausgabe der WearRAcon Konferenz in den USA, die erstmalig auf der A+A stattfand, wurde über Innovationen und Trends im Bereich der Exoskelett-Technologie diskutiert. Weitere Foren und Events wie beispielsweise die viermal täglich stattfindende Corporate Fashion Show und der A+A Catwalk ergänzten das vielfältige Messeprogramm. Auch aus der Werbeartikelbranche bekannte Textilspezialisten wie u.a. Clipper, Daiber, Hakro, ID Identity, Karlowsky und Promodono zeigten Flagge. Die Start-up-Zone bot nicht zuletzt jungen Unternehmen eine Ausstellungsfläche und Networking-Plattform.
Die nächste A+A findet vom 4. bis zum 7. November 2025 statt.
Bildquelle: Messe Düsseldorf/ctillmann
